DPM-06 測定露出一体化設備 「マイクロナノ加工で人間の生活を変える」を発表します。

源卓微納は先進的なパッケージアプリケーションに対してDPM-06測定露出一体化設備を導入し、革新的なダブルテーブルアーキテクチャ、独自に開発したリアルタイムグラフィック補償アルゴリズム、高精度位置測定システムを採用し、扇出(Fan out)パッケージプロセスでdie shift問題を解決するための全般的な解決策を提供します。方案。

Adaptive Patterning®技術ワークフロー

各基板の露出図形は測定データに基づいて生成された唯一の露出図形であり、実体マスク版は必要ありません。。

01.載dieの基板

02.独立した光学AOI検査設備

03.Die位置測定情報

04.リアルタイムで露出図形を生成します。

05.レーザー直写LDI設備露出

06.露出完成した基板

-DecaTechnologyから引用

源卓微納が独自に開発した一体化測定露出設備のワークフロー

各基板の露出図形は測定データに基づいて生成された唯一の露出図形であり、実体マスクモデルを必要としない。

01.載dieの基板

02.レーザー直写LDI設備自体には測定装置があります。

03.Die位置測定情報

04.リアルタイムで露出図形を生成します。

05.レーザー直写LDI設備露出

06.露出完成した基板

Adaptive Patterning®技術に比べて、源卓微納のDPM-06統合測定露出設備は完全な独立した知的財産権を持ち、以下の長所を持っています。

1.測定と露出の一体化設計で、設備自体の対位センサーを利用してdie位置測定を行い、単独のAOI光学測定設備が不要で、全体のコストを下げます。

2.独自のダブルテーブル構造で、測定と露出が交互に行われ、測定と同時に露出を行い、生産率を高めます。

3.独自に開発したグラフィック補償ソフトウェアアルゴリズムは、die測定の位置情報を高速で処理し、リアルタイムでグラフィック補完を生成します。