メリット
高解析光学レンズは線路の品質を高める
乾膜で高解析6/6μmを実現
メリット
精密レールプラットフォームは±5um照準精度
進級気浮プラットフォーム技術を実現し、精度は±3.5μmに向上しました。
メリット
自動光学焦点統合技術
板面の厚さの不均衡を克服する。
メリット
自主ミラー双台面交互照準露出技術
AF測定とパーティション照準開生産能力は速度が落ちない。
| 製品の特徴 | 高精度ミラーエアフロートプラットフォーム |
| 最大基板サイズ | 630mm×730mm |
| 最小基板サイズ | 300mm×300mm |
| 基板の厚さ | 0.05mm~3mm |
| 工芸解析L/S | 6µm/6µm |
| 線幅精度 | ±10% |
| 被写界深度 | ±200µm(AFモジュール付き) |
| 層間対位精度 | 7µm |
| 外層の照準精度 | ±3.5µm |
| 露出時間(90mj/cm²1枚4点対位、上下板を含まない) | 42秒/片 @623mm×610mm |
| 生産効率(90mj/cm²1枚当たり4点対位) | 1.4枚/分 @623mm×610mm |
| 光源パワー | 6W |
| 単機台面の数 | 左右の交互気浮双台面 |
| 内層線路モジュール | オプション |
| 単機設備重量 | 16000kg(自動線を含む) |
| 単機の外形サイズ | n/a |
| 自動線外形サイズ | 6620mm×3220mm×2400mm(収納板機を含まない) |
| 作業高さ(輸送高さ) | 1000±20mm |
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